تأثیر المعاملة الکیمیائیة لسطح السلیکون على عمل الخلیة الشمسیة ZnO/p-Si

الملخصتم فی هذا البحث تحضیر خلایا شمسیة نوع (ZnO/p-Si) بترسیب غشاء ZnO بطریقة الترسیب الکهروکیمیائی (من المحلول المائی لمادتی KCl و(ZnCl2 على قواعد من السلیکون Si(111) ومن ثم إجراء عملیة التلدین للنماذج ((1h,550˚C. ودرس تأثیر التلدین وتأثیر المعاملة الکیمیائیة بحامضی (HCl,HF) باستخدام تقنیات (المجهر الضوئی و (SEM-EDAX, X-Ray کتقنیات تحلیل ودراسة. کما تم استخدام قواعد من الزجاج لدراسة الخواص البصریة للأغشیة المحضرة ووجد أنها تمتلک طاقة فجوة بصریة (Eg=3.15eV) تسمح لمعظم الطیف المرئی بالنفاذ وتصل نفاذیة النماذج المحضرة إلى 80% فی حین لوحظ تحسن فی نفاذیة الأغشیة بعد التلدین وصلت إلى 85%. وتم الحصول على کفاءة تحویل للخلایا الشمسیة التی تم فیها معاملة السلیکون بحامض HCl بمقدار η=2.47% أما عند المعاملة بحامض HF بمقدار η=4.337% وقد لوحظ تحسن واضح فی أداء الخلیة الشمسیة عند استعمال محلول قاعدی یعمل على تخدیش سطح السلیکون إذ تم الحصول على کفاءة تحویل η=4.7%.